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外国特許情報

投稿日:2021/02/10 知財情報

特許&技術レポート 河 合同特許法律事務所/SEOUL TECHNO R&C CO.,LTD. 2021年2月号

  • 2021年から新たに変わる知的財産制度
  • ソフトウェア関連の商標出願時、「用途」の記載が必須
  • 大法院2021.1.14.宣告2017HU1830[登録無効(特)]
  • デジタルインプラント分野の特許出願、過去10年間に年平均12%増加
  • OLED素材分野の特許出願、年平均5%増加
  • 化学研究院の研究チーム、世界で初めて発見した「ナノ粒子の光の雪崩現象」とは

特許&技術レポート 河 合同特許法律事務所/SEOUL TECHNO R&C CO.,LTD. 2021年2月号 (595kB)